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臺式化學(xué)機械研磨拋光設(shè)備

CMP Tribo 臺式化學(xué)機械研磨拋光設(shè)備,The Tribo CMP system is a precision engineered, bench top solution designed with one thing in mind - the research of wafer processes

  • 產(chǎn)品地址:北京市
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2026-05-25
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產(chǎn)品詳情

CMP Tribo 是一款精密設(shè)計的臺式化學(xué)機械研磨拋光設(shè)備,主要面向晶圓工藝研究,尤其適用于分析晶圓、拋光墊與拋光液之間的相互作用關(guān)系。該系統(tǒng)的核心應(yīng)用包括 CMP 平坦化工藝研究與芯片逐層去除工藝,可用于評估不同材料、拋光墊、拋光液和工藝參數(shù)對材料去除率、表面質(zhì)量及工藝穩(wěn)定性的影響。同時,Tribo 也可用于摩擦學(xué)相關(guān)研究,幫助用戶理解接觸、摩擦、磨損和潤滑等過程機理。設(shè)備具備出色的實時分析能力,能夠在加工過程中獲取關(guān)鍵工藝數(shù)據(jù),便于用戶進行工藝優(yōu)化和結(jié)果驗證。其穩(wěn)定、可重復(fù)的性能表現(xiàn)有助于提升實驗數(shù)據(jù)的一致性和可靠性。通過直觀的控制界面,操作人員可以便捷地調(diào)節(jié)工藝條件,實現(xiàn)更精細的過程控制。


Tribo 采用緊湊型臺式設(shè)計,具備良好的適應(yīng)性和便攜性,適合研發(fā)實驗室、小樣品測試、工藝篩選及CMP耗材評估等場景,是一套兼具靈活性、分析能力和 Logitech 工程品質(zhì)的研發(fā)型 CMP 平臺。



 
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