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CMP銅Copper工藝的開發(fā)

更新時間:2021-05-21      瀏覽次數(shù):3117

擁有超過50年經(jīng)驗的實驗室團(tuán)隊,與客戶合作不斷開發(fā)新的工藝 ,以確??梢允褂米钚潞拖冗M(jìn)的工藝技術(shù)來幫助客戶 。無論是持續(xù)進(jìn)行研發(fā)以確保我們掌握新技術(shù)和工藝知識,還是繼續(xù)開發(fā)我們現(xiàn)有的產(chǎn)品,我們始終都在不斷前進(jìn)。

 以下是最近幾周實驗室開發(fā)的CMP銅樣品的示例:

 Logitech的實驗室通過平坦化阻擋層,成功地加工了電鍍銅晶

經(jīng)歷了種器件沉積,使用Logitech CMP Orbis拋光機(jī)每一層的銅鍍層進(jìn)行平坦化。

 無論銅是電鍍層還是硅通孔(TSV)或玻璃通孔(TGV)的一部分,我們的CMP Tribo和CMP Orbis系統(tǒng)都可以為下一步的器件工藝提升到高水平的性能做準(zhǔn)備。此外,對于給定的工藝設(shè)置條件,智能驅(qū)動系統(tǒng)還可以通過摩擦系數(shù)(CoF)等監(jiān)測提供可靠的終點檢測。

 摩擦系數(shù)CoF輸出數(shù)據(jù)的示例可以在以下圖表中看到。

 

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